慶應義塾
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Transport coefficients and scattering cross-sections for plasma modeling in CF4-Ar mixtures: a swarm analysis

著者名
M. Kurihara, Z. Lj. Petrovic and T. Makabe
掲載誌名
誌名J.Phys.D: 開始ページ2146-53 (出版年(月日)2001年)
共著区分
共著
掲載種別
研究論文(学術雑誌)
査読有無
有り

Two-dimensional modeling of a micro cell plasma in a mixture of Ne/Xe driven by a capacitively coupled high-frequency source

著者名
M. Kurihara and T. Makabe
掲載誌名
誌名J.Appl.Phys. 開始ページ7756-63 (出版年(月日)2001年)
共著区分
共著
掲載種別
研究論文(学術雑誌)
査読有無
有り

Influence of gas pressure and magnetic field upon dc magnetron discharge”

著者名
E. Shidoji, K. Ness and T. Makabe
掲載誌名
誌名VACUUM 開始ページ299-306 (出版年(月日)2001年03月)
共著区分
共著
掲載種別
研究論文(学術雑誌)
査読有無
有り

The effect of topographical local charging on the etching of deep-submicron structures in SiO_2_ as a function of aspect ratio"

著者名
J. Matsui, N. Nakano, Z. Lj. Petrovic, and T. Makabe
掲載誌名
誌名Appl.Phys.Let. 開始ページ883-5 (出版年(月日)2001年02月)
共著区分
共著
掲載種別
研究論文(学術雑誌)
査読有無
有り

Radio-Frequency plasma modeling for low-temperature processing

著者名
T. Makabe
掲載誌名
誌名Adv.in Atomic, Molecular and Optical Physics 開始ページ127-54 (出版年(月日)2001年01月)
共著区分
単著
掲載種別
研究論文(学術雑誌)
査読有無
有り

Modeling of radial uniformity at a wafer interface in a 2f-CCP for SiO2 etching

著者名
T. Yagisawa, T. Shimada, and T. Makabe
掲載誌名
誌名J.Vac.Sci.Technol.B 開始ページ2212-17 (出版年(月日)2005年)
共著区分
共著
掲載種別
研究論文(学術雑誌)
査読有無
有り

Effect of metastables on a sustaining mechanism in inductively coupled plasma in Ar

著者名
T. Sato and T. Makabe
掲載誌名
誌名J.Appl.Phys. 開始ページ113304(3pp) (出版年(月日)2005年)
共著区分
共著
掲載種別
研究論文(学術雑誌)
査読有無
有り

Three dimensional singular images of low pressure hydrogen-ICP in E-mode

著者名
Y. Miyoshi, M. Miyauchi, A. Oguni, and T. Makabe
掲載誌名
誌名IEEE Trans. on Plasma Sci. 開始ページ362-3 (出版年(月日)2005年)
共著区分
共著
掲載種別
研究論文(学術雑誌)
査読有無
有り

Transport coefficients for electrons in argon in crossed electric and magnetic rf fields

著者名
Z. M. Raspopovic, D. Dujko, T. Makabe, and Z. Lj. Petrovic
掲載誌名
誌名Plasma Sources Sci. Technol. 開始ページ293-300 (出版年(月日)2005年)
共著区分
共著
掲載種別
研究論文(学術雑誌)
査読有無
有り

Space- and time-resolved E-H transition in an inductively coupled plasma in Ar

著者名
S. Hirao, Y. Hayashi, and T. Makabe
掲載誌名
誌名IEEE Trans. Plasma Sci. 開始ページ1410-11 (出版年(月日)2008年)
共著区分
共著
掲載種別
研究論文(学術雑誌)
査読有無
有り

Diagnostics of N2 dissociation in RF plasmas by vacuum ultraviolet emission and absorption spectroscopy

著者名
T. Kitajima, T. Nakano, S. Samukawa, and T. Makabe
掲載誌名
誌名Plasma Sources Sci. & Technol. 開始ページ024018(7pp) (出版年(月日)2008年)
共著区分
共著
掲載種別
研究論文(学術雑誌)
査読有無
有り

In situ measurement of plasma charging on SiO2 hole bottoms and reduction by negative charge injection during etching

著者名
T. Ohmori and T. Makabe
掲載誌名
誌名Appl.Surface Science 開始ページ3696-709 (出版年(月日)2008年)
共著区分
共著
掲載種別
研究論文(学術雑誌)
査読有無
有り

A numerical investigation of atomic oxygen density in an inductively coupled plasma in O2/Ar mixture

著者名
T. Sato and T. Makabe
掲載誌名
誌名J.Phys.D:Appl.Phys. 開始ページ035211(6pp) (出版年(月日)2008年)
共著区分
共著
掲載種別
研究論文(学術雑誌)
査読有無
有り

Guest editorial special issue on modeling and simulation of collisional low-temperature plasmas

著者名
D. J. Economou and T. Makabe
掲載誌名
誌名IEEE Trans. on Plasma Science 開始ページ1194 (出版年(月日)2007年)
共著区分
共著
掲載種別
研究論文(学術雑誌)
査読有無
有り

Numerical modeling of rf magnetron sputtering with metallic or dielectric target

著者名
T. Makabe and T. Yagisawa
掲載誌名
誌名Materials Sci. Forum 開始ページ165-71 (出版年(月日)2007年)
共著区分
共著
掲載種別
研究論文(学術雑誌)
査読有無
有り

Data and modeling of negative ion transport in gases of interest for production of integrated circuits and nanotechnologies

著者名
Z.Lj.Petrovic, Z.M.Raspopovic, V.D.Stojanovic, J.V.Jovanovic, G.Malovic, T.Makabe, and J.de Urquijo
掲載誌名
誌名Appl. Surface Science 開始ページ6619-40 (出版年(月日)2007年)
共著区分
共著
掲載種別
研究論文(学術雑誌)
査読有無
有り

Measurement of amount of pattern trim and surface chemistry for organic resist etching in an inductively coupled plasma in SO2-O2 gas mixtures

著者名
T. Goto and T. Makabe
掲載誌名
誌名Jpn.J.Appl.Phys. 開始ページ5297-303 (出版年(月日)2007年)
共著区分
共著
掲載種別
研究論文(学術雑誌)
査読有無
有り

Transport coefficients for electrons in mixtures of Ar and HBr

著者名
O.Sasic, S.Dujko, Z.Lj.Petrovic, and T.Makabe
掲載誌名
誌名Jpn.J.Appl.Phys. 開始ページ3560-5 (出版年(月日)2007年)
共著区分
共著
掲載種別
研究論文(学術雑誌)
査読有無
有り

Effects of plasma modeling on feature profile of silicon micro-electro-mechanical systems through flux ion velocity distributions in two-frequency cpapcitively coupled plasma in SF6/O2

著者名
F. Hamaoka, T. Yagisawa, and T. Makabe
掲載誌名
誌名Jpn.J.Appl.Phys. 開始ページ3059-65 (出版年(月日)2007年)
共著区分
共著
掲載種別
研究論文(学術雑誌)
査読有無
有り

Modeling of Si etchig under effects of plasma molding in two-frequency capacitively coupled plasma in SF6/O2 for MEMS fabrication

著者名
F.Hamaoka, T.Yagisawa, and T.Makabe
掲載誌名
誌名IEEE Trans. on Plasma Sci. 開始ページ1350-8 (出版年(月日)2007年10月)
共著区分
共著
掲載種別
研究論文(学術雑誌)
査読有無
有り