慶應義塾
1~20件(全198件)

Advances in computational plasma science for low-temperature RF plasmas(APEX REVIEW)

著者名
Toshiaki Makabe
掲載誌名
誌名Appl. Phys. Express 開始ページ070106 (18pp) (出版年(月日)2026年07月)
共著区分
単著
掲載種別
研究論文(学術雑誌)
査読有無
有り

Interrelation of electron diffusion tensor among position, velocity, and phase spaces in gases

著者名
Toshiaki Makabe
掲載誌名
誌名Plasma Sources Sci. Technol. 開始ページ015016 (8pp) (出版年(月日)2026年01月)
共著区分
単著
掲載種別
研究論文(学術雑誌)

Drift velocity of charged particles in gases: general relationship between drift velocities in position and velocity spaces

著者名
Toshiaki Makabe
掲載誌名
誌名Phys. Scr. 開始ページ035615 (8pp) (出版年(月日)2025年02月)
共著区分
単著
掲載種別
研究論文(学術雑誌)

Historical development of electron swarm physics based on the Boltzmann equation towards in-depth understanding of a low-temperature collisional plasma (Topical Review)

著者名
T. Makabe and H. Sugawara
掲載誌名
誌名Plasma Sources Sci. Technol. 開始ページ093001 (23pp) (出版年(月日)2024年09月)
共著区分
共著
掲載種別
研究論文(学術雑誌)
査読有無
有り

Current status and new insights about the capacitively coupled electronegative plasma source: injection of energetic beam-like electrons to electrode

著者名
Toshiaki Makabe
掲載誌名
誌名J. Phys. D. 56 開始ページ045203 (17pp) (出版年(月日)2023年01月)
共著区分
単著
掲載種別
研究論文(学術雑誌)
査読有無
有り

Review and current status: E-H mode transition in low-temperature ICP and related electron dynamics (Topical Review)

著者名
Toshiaki Makabe
掲載誌名
誌名Plasma Sources Sci. Technol. 開始ページ023001(16pp) (出版年(月日)2021年02月)
共著区分
単著
掲載種別
研究論文(学術雑誌)
査読有無
有り

Sustainability of active bulk plasma with high electronegativity in capacitive high frequency plasma

著者名
Toshiaki Makabe
掲載誌名
誌名Jap. J. Appl. Phys. 開始ページ026002(6pp) (出版年(月日)2022年02月)
共著区分
単著
掲載種別
研究論文(学術雑誌)
査読有無
有り

Pulsed plasmas and related electron energy control for dry etching

著者名
T. Makabe and Z.Lj.Petrovic
掲載誌名
誌名Physics of Ionized Gases 開始ページ305-325 (出版年(月日)1999年)
共著区分
共著
掲載種別
研究論文(学術雑誌)
査読有無
有り

The effect of laser-induced photo-detachment in O_2_ RF discharges

著者名
M.Shibata,N.Nakano and T.Makabe
掲載誌名
誌名J. Phys. D 開始ページ1219-24 (出版年(月日)1997年)
共著区分
共著
掲載種別
研究論文(学術雑誌)
査読有無
有り

Frequency variation of the mean energy of rf electron swarm.

著者名
R.E.Robson,K.Maeda,T.Makabe and R.D.White
掲載誌名
誌名Aust.J.Phys 開始ページ335-46 (出版年(月日)1995年)
共著区分
共著
掲載種別
研究論文(学術雑誌)
査読有無
有り

Spatiotemporal characteristics determined by a relaxation continuum model of an inductively coupled plasma

著者名
K.Kondo,H.Kuroda and T.Makabe
掲載誌名
誌名Appl. Phys. Lett. 開始ページ31-3 (出版年(月日)1994年)
共著区分
共著
掲載種別
研究論文(学術雑誌)
査読有無
有り

Computer simulation of plasma etching (in Japanese)

著者名
T.Makabe
掲載誌名
誌名Plasma & Fusion Research 開始ページ15-26 (出版年(月日)1993年)
共著区分
単著
掲載種別
研究論文(学術雑誌)
査読有無
有り

Time-resolved measurement of charging on hole bottoms of SiO2 wafer exposed to plasma etching in a pulsed two- frequency capacitively coupled plasma

著者名
T. Ohmori, T. K. Goto, T. Kitajima, and T. Makabe
掲載誌名
誌名Jpn.J.Appl.Phys.(Exp. Lett.) 開始ページL1105-08 (出版年(月日)2005年)
共著区分
共著
掲載種別
研究論文(学術雑誌)
査読有無
有り

Electron transport coefficients in O2 magnetron discharges

著者名
R. D. White, K. E. Ness, R. E. Robson, and T. Makabe
掲載誌名
誌名J.Phys.D 開始ページ997-1004 (出版年(月日)2005年)
共著区分
共著
掲載種別
研究論文(学術雑誌)
査読有無
有り

Vertically integrated computer aided design for device processing

著者名
T. Makabe and K. Maeshige
掲載誌名
誌名Appl.Surf.Sci 開始ページ176-200 (出版年(月日)2002年)
共著区分
共著
掲載種別
研究論文(学術雑誌)
査読有無
有り

Low pressure nonequilibrium plasma for topdown nanoprocess

著者名
T. Makabe and T. Yagisawa
掲載誌名
誌名Plasma Sources Sci. Technol. 開始ページ024011(12pp) (出版年(月日)2011年04月)
共著区分
共著
掲載種別
研究論文(学術雑誌)
査読有無
有り

Increased O(1D) metastable flux with Ar and Kr diluted oxygen plasmas and improved film properties of grown SiO2 film

著者名
T.Kitajima, N.Nakano, and T. Makabe
掲載誌名
誌名J.Vac. Sci. & Technol. A 開始ページ1308-12 (出版年(月日)2008年)
共著区分
共著
掲載種別
研究論文(学術雑誌)
査読有無
有り

Two dimensional images of radiative and metastable excited state radial profiles for an inductively coupled plasma in argon

著者名
H. Hirata, M. Tadokoro, N. Nakano, Z. Lj. Petrovic, and T. Makabe
掲載誌名
誌名IEEE Trans. on Plasma Sci. 開始ページ50-1 (出版年(月日)1999年03月)
共著区分
共著
掲載種別
研究論文(学術雑誌)
査読有無
有り

Effect of frequency on the two-dimensional structure of capacitively coupled plasma in Ar

著者名
T. Kitajima, Y. Takeo, and T. Makabe
掲載誌名
誌名Jpn.J.Appl.Phys. 開始ページ5928-36 (出版年(月日)1998年12月)
共著区分
共著
掲載種別
研究論文(学術雑誌)
査読有無
有り

Expression for momentum-transfer scattering in inelastic collisions in electron transport in a collisional plasma

著者名
T. Makabe and R. WHITE
掲載誌名
誌名J.Phys.D: Appl.Phys. 出版社IOP 開始ページ485205(4pp) (出版年(月日)2015年11月)
共著区分
共著
査読有無
有り