論文
真壁 利明
141~160件（全198件）
Modeling of the influence of dielectric target on interface sheath characteristics in a radio-frequency magnetron sputtering
- 著者名
- S. Kuroiwa, T. Mine, T. Yagisawa, and T. Makabe
- 掲載誌名
- 誌名J.Vac.Sci.Technol.B 開始ページ2218-21 (出版年（月日）2005年）
- 共著区分
- 共著
- 掲載種別
- 研究論文（学術雑誌）
- 査読有無
- 有り
Influence of driving frequency on oxygen atom density in O2 radio frequency capacitively coupled plasma
- 著者名
- T. Kitajima, K. Noro, T. Nakano, and T. Makabe
- 掲載誌名
- 誌名J.Phys.D 開始ページ2670-6 (出版年（月日）2004年）
- 共著区分
- 共著
- 掲載種別
- 研究論文（学術雑誌）
- 査読有無
- 有り
Comparison of direct numerical procedure and Monte Carlo technique to determine the charging effects in submicron structures
- 著者名
- Z. Lj. Petrovic, S. Sakadzic, N. Spasojevic, J. Matsui, and T. Makabe
- 掲載誌名
- 誌名Materials Sci. Forum 開始ページ9-14 (出版年（月日）2004年）
- 共著区分
- 共著
- 掲載種別
- 研究論文（学術雑誌）
- 査読有無
- 有り
Funtional separation in two frequency operation of an Inductively Coupled Plasma
- 著者名
- T. Denda, Y. Miyoshi, T. Goto, K. Komukai, Z. Lj. Petrovic, and T. Makabe
- 掲載誌名
- 誌名J.Appl.Phys. 開始ページ870-6 (出版年（月日）2004年）
- 共著区分
- 共著
- 掲載種別
- 研究論文（学術雑誌）
- 査読有無
- 有り
Negative charge injection to wafer in a pulsed two-frequency capacitively coupled plasma for oxide etching: diagnostics for an interface by emission selected-computerized tomography
- 著者名
- T. Ohmori, T. Goto, and T. Makabe
- 掲載誌名
- 誌名J.Phys.D 開始ページ2223-31 (出版年（月日）2004年）
- 共著区分
- 共著
- 掲載種別
- 研究論文（学術雑誌）
- 査読有無
- 有り
Modeling of N2-H2 capacitively coupled plasma for low-k material etching
- 著者名
- C-H. Shon and T. Makabe
- 掲載誌名
- 誌名IEEE Trans. on Plasma Sci. 開始ページ390-8 (出版年（月日）2004年04月）
- 共著区分
- 共著
- 掲載種別
- 研究論文（学術雑誌）
- 査読有無
- 有り
Prediction of a radial variation of plasma structure and ion distributions in the wafer interface in 2-frequency capacitively coupled plasma
- 著者名
- T. Yagisaw, K. Maeshige, T. Shimada, and T. Makabe
- 掲載誌名
- 誌名IEEE Trans. on Plasma Sci. 開始ページ90-100 (出版年（月日）2004年02月）
- 共著区分
- 共著
- 掲載種別
- 研究論文（学術雑誌）
- 査読有無
- 有り
Magnetron plasma structure with strong magnetic field
- 著者名
- E. Shidoji and T. Makabe
- 掲載誌名
- 誌名Thin Solid Films 開始ページ27-31 (出版年（月日）2003年）
- 共著区分
- 共著
- 掲載種別
- 研究論文（学術雑誌）
- 査読有無
- 有り
Control of charging in high aspect ratio plasma etching of integrated circuits
- 著者名
- Z.Lj. Petrovic and T. Makabe
- 掲載誌名
- 誌名TELSIKS 開始ページ119-26 (出版年（月日）2003年）
- 共著区分
- 共著
- 掲載種別
- 研究論文（学術雑誌）
- 査読有無
- 有り
Negative charge injection to a positively charged SiO2 hole exposed to plasma etching in a pulsed two-frequency capacitively coupled plasma in CF4/Ar
- 著者名
- T. Ohmori, T. Goto, T. Kitajima, and T. Makabe
- 掲載誌名
- 誌名Appl.Phys.Lett. 開始ページ4637-9 (出版年（月日）2003年11月）
- 共著区分
- 共著
- 掲載種別
- 研究論文（学術雑誌）
- 査読有無
- 有り
Negative mobilities of electron in radio frequency fields
- 著者名
- S. Dujko, Z. M. Raspopovic, Z. Lj. Petrovic, and T. Makabe
- 掲載誌名
- 誌名IEEE Trans. on Plasma Sci. 開始ページ711-6 (出版年（月日）2003年08月）
- 共著区分
- 共著
- 掲載種別
- 研究論文（学術雑誌）
- 査読有無
- 有り
Temporal velocity distribution of positive and negative ions incident on a wafer in a pulsed two-frequency capacitively coupled plasma in CF_4_/Ar for SiO_2_ etching
- 著者名
- T. Yagisawa and T. Makabe
- 掲載誌名
- 誌名IEEE Trans. on Plasma Science 開始ページ521-7 (出版年（月日）2003年08月）
- 共著区分
- 共著
- 掲載種別
- 研究論文（学術雑誌）
- 査読有無
- 有り
Electron transport coefficients in SiH4 and Si2H6 in dc and rf fields
- 著者名
- T. Shimada, Y.N akamura, Z. Lj. Petrovic, and T. Makabe
- 掲載誌名
- 誌名J.Phys.D: Appl.Phys. 開始ページ1936-46 (出版年（月日）2003年07月）
- 共著区分
- 共著
- 掲載種別
- 研究論文（学術雑誌）
- 査読有無
- 有り
Transition between capacitive and inductive mode in inductively coupled plasma observed by emission computerized tomography
- 著者名
- Y. Miyoshi, Z. Lj. Petrovic, and T. Makabe
- 掲載誌名
- 誌名IEEE Trans. on Plasma Science 開始ページ130-1 (出版年（月日）2002年）
- 共著区分
- 共著
- 掲載種別
- 研究論文（学術雑誌）
- 査読有無
- 有り
Optical computerized tomography of the E-H transition in inductively coupled plasmas in Ar and Ar-CF4 mixtures
- 著者名
- Y. Miyoshi, Z. Lj. Petrovic, and T. Makabe
- 掲載誌名
- 誌名J. Phys. D: Appl. Phys. 開始ページ454-61 (出版年（月日）2002年）
- 共著区分
- 共著
- 掲載種別
- 研究論文（学術雑誌）
- 査読有無
- 有り
Diagnostics of a wafer interface of a pulsed two frequency capacitively oupled plasma for oxide etching by emission selected computerized tomography
- 著者名
- T. Fujita and T. Makabe
- 掲載誌名
- 誌名Plasma Sources Sci & Technol 開始ページ142-5 (出版年（月日）2002年）
- 共著区分
- 共著
- 掲載種別
- 研究論文（学術雑誌）
- 査読有無
- 有り
Functional design of a pulsed two-frequency capacitively coupled plasma in CF4/Ar for SiO2 etching
- 著者名
- K. Maeshige, G. Washio, T. Yagisawa, and T. Makabe
- 掲載誌名
- 誌名J.Appl.Phys. 巻91(号12) 開始ページ9494-501 (出版年（月日）2002年）
- 共著区分
- 共著
- 掲載種別
- 研究論文（学術雑誌）
- 査読有無
- 有り
Kinetic phenomena in electron transport in radio frequency fields
- 著者名
- Z. Lj. Petrovic, Z. M. Raspopovic, S. Dujko, and T. Makabe
- 掲載誌名
- 誌名Appl.Surf.Sci. 開始ページ1-25 (出版年（月日）2002年）
- 共著区分
- 共著
- 掲載種別
- 研究論文（学術雑誌）
- 査読有無
- 有り
Development of optical computerized tomography in CCP and ICP for plasma etching
- 著者名
- T. Makabe and Z. Lj. Petrovic
- 掲載誌名
- 誌名Appl.Surf.Sci. 開始ページ88-114 (出版年（月日）2002年）
- 共著区分
- 共著
- 掲載種別
- 研究論文（学術雑誌）
- 査読有無
- 有り
Future TCAD system for nanometer-scale-device manufacturing using plasma etching
- 著者名
- T. Makabe, J. Matsui, and K. Maeshige
- 掲載誌名
- 誌名AIPP 開始ページ2263-71 (出版年（月日）2001年）
- 共著区分
- 共著
- 掲載種別
- 研究論文（学術雑誌）
- 査読有無
- 有り