慶應義塾
81~100件(全198件)

Modeling of an RF glow discharge plasma

著者名
K. Okazaki, T.Makabe, and Y. Yamaguchi
掲載誌名
誌名Appl. Phys. Lett. 開始ページ1742-4 (出版年(月日)1989年)
共著区分
共著
掲載種別
研究論文(学術雑誌)
査読有無
有り

A modeling of amorphous silicon deposition in silane dc-glow dicharges

著者名
Y. Yamaguchi, A. Sumiyama, R. Hattori, Y. Morokuma, and T.Makabe
掲載誌名
誌名J. Phys. D 開始ページ505-11 (出版年(月日)1989年)
共著区分
共著
掲載種別
研究論文(学術雑誌)
査読有無
有り

Electoron transport to a substrate in a radio frequency capacitively coupled plasma by the Boltzmann equation

著者名
J. Matsui, M. Shibata, N. Nakano, and T.Makabe
掲載誌名
誌名J.Vac.Sci.Technol.A 開始ページ294-9 (出版年(月日)1998年)
共著区分
共著
掲載種別
研究論文(学術雑誌)
査読有無
有り

Time resolved optical emission spectroscopy of an inductively coupled plasma in argon and oxygen

著者名
M. Tadokoro, H. Hirata, N. Nakano, Z. Lj. Petrovic, and T.Makabe
掲載誌名
誌名Phys.Rev.E 開始ページR43-6 (出版年(月日)1998年)
共著区分
共著
掲載種別
研究論文(学術雑誌)
査読有無
有り

Charged particle transport in harmonically varying electric fields:Foundations and Phenomenology

著者名
R.E.Robson and T.Makabe
掲載誌名
誌名Annals of Physics 開始ページ74-113 (出版年(月日)1997年)
共著区分
共著
掲載種別
研究論文(学術雑誌)
査読有無
有り

Three dimensional optical emission tomography of an inductively coupled plasma

著者名
A.Okigawa, M.Tadokoro, A.Itoh, N.Nakano, Z.Lj.Ptorovic, and T.Makabe
掲載誌名
誌名Jpn. J. Appl. Phys. 開始ページ3707-3713 (出版年(月日)1997年)
共著区分
共著
掲載種別
研究論文(学術雑誌)
査読有無
有り

Two dimensional transport of submicron particles in CCP reactor

著者名
R. Hashido, M. Hasebe, Y. Hosokawa, N. Nakano, Y. Yamaguchi, and T.Makabe
掲載誌名
誌名Jpn. J. Appl. Phys. 開始ページ3707-13 (出版年(月日)1997年)
共著区分
共著
掲載種別
研究論文(学術雑誌)
査読有無
有り

Diffusion tensor in electron transport in gases in a radio-frequency field

著者名
K.Maeda,T.Makabe,N.Nakano,S.Bzenic,and Z.Lj.Petrovic
掲載誌名
誌名Phys. Rev. E 開始ページ5901-08 (出版年(月日)1997年)
共著区分
共著
掲載種別
研究論文(学術雑誌)
査読有無
有り

The time resolved two-dimensional profile of a radiofrequency capacitively coupled plasma

著者名
T.Kitajima,M.Izawa,N.Nakano,and T.Makabe
掲載誌名
誌名J. Phys. D 開始ページ1783-9 (出版年(月日)1997年)
共著区分
共著
掲載種別
研究論文(学術雑誌)
査読有無
有り

Comparative study of the characteristics between CCP and ICP by 2D-modeling / diagnostics

著者名
T. Makabe and N. Nakano
掲載誌名
誌名Elec.Chem.Soc.Proc. 開始ページ1-10 (出版年(月日)1996年)
共著区分
共著
掲載種別
研究論文(学術雑誌)
査読有無
有り

Modeling of negative ion plasma (in Japanese)

著者名
T.Makabe
掲載誌名
誌名J.Plasma & Fusion Reseach 開始ページ1138-43 (出版年(月日)1996年)
共著区分
単著
掲載種別
研究論文(学術雑誌)
査読有無
有り

Robot assisted optical emission tomography in a CCP and ICP

著者名
T.Makabe
掲載誌名
誌名Physics of Ionized Gases 開始ページ257-68 (出版年(月日)1996年)
共著区分
単著
掲載種別
研究論文(国際会議プロシーディングス)
査読有無
有り

Modeling of narrow gap reactive ion etcher by the relaxation continuum model

著者名
N. Nakano and T. Makabe
掲載誌名
誌名Physics of Ionized Gases 開始ページ269-78 (出版年(月日)1996年)
共著区分
共著
掲載種別
研究論文(学術雑誌)
査読有無
有り

Effect of O2(a^1Δg) on plasma structure in oxygen rf discharges

著者名
M. Shibata, N. Nakano and T. Makabe
掲載誌名
誌名J. Appl. Phys. 開始ページ6142-7 (出版年(月日)1996年)
共著区分
共著
掲載種別
研究論文(学術雑誌)
査読有無
有り

Diagnostics of a non-equilibrium inductively coupled plasmas in argon

著者名
A. Okigawa, Z. Petrovic, M. Tadokoro, T. Makabe, N. Nakano, and A. Itoh
掲載誌名
誌名Appl. Phys. Lett. 開始ページ2644-6 (出版年(月日)1996年)
共著区分
共著
掲載種別
研究論文(学術雑誌)
査読有無
有り

Computer-assisted optical emission tomography in a radiofrequency capacitively coupled plasma

著者名
K.Kitajima,M.Izawa,R.Hashido,N.Nakano,and T.Makabe
掲載誌名
誌名Appl. Phys. Lett. 開始ページ758-60 (出版年(月日)1996年)
共著区分
共著
掲載種別
研究論文(学術雑誌)
査読有無
有り

Robot assisted opotical emission tomography in an inductively coupled plasma reactor

著者名
A.Okigawa,T.Makabe,T.Shibagaki,N.Nakano, Z.Lj.Petrovic,T.Kogawa,and A.Itoh
掲載誌名
誌名Jpn.J.Appl.Phys. 開始ページ1890-3 (出版年(月日)1996年)
共著区分
共著
掲載種別
研究論文(学術雑誌)
査読有無
有り

Tomographic images of a plasma structure and sputtered particle in a DC magnetron discharge

著者名
A.Itoh,T.Makabe, N.Shimura,and S.Tougo
掲載誌名
誌名IEEE Trans. on Plasma Sci. 開始ページ109-10 (出版年(月日)1996年)
共著区分
共著
掲載種別
研究論文(学術雑誌)
査読有無
有り

Effect of surface material on spatio-temporal structure in O2 RF glow discharge

著者名
M.Shibata,T.Makabe,and N.Nakano
掲載誌名
誌名Jpn.J.Appl.Phys. 開始ページ6230-6 (出版年(月日)1995年)
共著区分
共著
掲載種別
研究論文(学術雑誌)
査読有無
有り

Low temperature SF6 plasma and related semiconductor processings (in Japanese)

著者名
T.Makabe
掲載誌名
誌名IEE of Jpn. 開始ページ492-4 (出版年(月日)1995年)
共著区分
単著
掲載種別
研究論文(学術雑誌)
査読有無
有り