慶應義塾
121~140件(全198件)

Two-dimensional self-consistent simulation of a DC magnetron discharge

著者名
E. Shidoji, H. Ohtake, N. Nakano, and T. Makabe
掲載誌名
誌名Jpn.J.Appl.Phys. 開始ページ2131-6 (出版年(月日)1999年04月)
共著区分
共著
掲載種別
研究論文(学術雑誌)
査読有無
有り

Two-dimensional density distribution of metastable atoms in an inductively coupled plasma in Ar

著者名
M. Tadokoro, H. Hirata, N. Nakano, Z. Lj. Petrovic and T. Makabe
掲載誌名
誌名Phys.Rev.E 開始ページ7823-30 (出版年(月日)1998年)
共著区分
共著
掲載種別
研究論文(学術雑誌)
査読有無
有り

Diagnostics of an inductively coupled plasma in oxygen

著者名
M. Tadokoro, A. Itoh, N. Nakano, Z. Lj. Petrovic, and T. Makabe
掲載誌名
誌名IEEE Trans. on Plasma Sci. 開始ページ1724-32 (出版年(月日)1998年)
共著区分
共著
掲載種別
研究論文(学術雑誌)
査読有無
有り

Nonequilibrium plasmas for material processing in microelectronics

著者名
Z.Lj.Petrovic, and T.Makabe
掲載誌名
誌名Advanced Materials and Processes 開始ページ47-56 (出版年(月日)1998年)
共著区分
共著
掲載種別
研究論文(学術雑誌)
査読有無
有り

A novel sustaining mechanism in capacitively coupled radio frequency plasma in oxygen.

著者名
M. Shibata, T.Makabe, and N. Nakano
掲載誌名
誌名Jpn.J.Appl.Phys. 開始ページ4182-5 (出版年(月日)1998年)
共著区分
共著
掲載種別
研究論文(学術雑誌)
査読有無
有り

Phasespace modelling of a radiofrequency plasma interacting with surfaces

著者名
T.Makabe, J.Matsui, and N.Nakano
掲載誌名
誌名Pure & Appl.Chem. 開始ページ1187-91 (出版年(月日)1998年)
共著区分
共著
掲載種別
研究論文(学術雑誌)
査読有無
有り

A series of modeling of plasma etching and damage reduction: -Vertically integrated computer aided design for device precessing-

著者名
T. Makabe, J. Matsui, and K. Maeshige
掲載誌名
誌名Sci.Technol.of Adv. Materials 開始ページ547-54 (出版年(月日)2001年)
共著区分
共著
掲載種別
研究論文(学術雑誌)
査読有無
有り

Effect of aspect ratio on topographic dependent charging in oxide etching

著者名
J. Matsui, K. Maeshige, and T. Makabe
掲載誌名
誌名J.Phys.D 開始ページ2950-5 (出版年(月日)2001年)
共著区分
共著
掲載種別
研究論文(学術雑誌)
査読有無
有り

Non-equillibrium plasmas in telecommunication related technologies

著者名
Z. Lj. Petrovic, Z. M. Paspopovic, and T. Makabe
掲載誌名
誌名TELSIKS 開始ページ371-380 (出版年(月日)2001年)
共著区分
共著
掲載種別
研究論文(学術雑誌)
査読有無
有り

Optical emission spectroscopy of pulsed inductively coupled plasma In Ar

著者名
K. Hioki, N. Itazu, Z. Lj. Petrovic, and T. Makabe
掲載誌名
誌名Jpn.J.Appl.Phys. 開始ページL1183-6 (出版年(月日)2001年)
共著区分
共著
掲載種別
研究論文(学術雑誌)
査読有無
有り

Modeling and diagnostics of two-frequency pulsed ccp and related charging in the microstructure of SiO2 trench

著者名
T. Makabe
掲載誌名
誌名J.Tech.Phys. 開始ページ345-59 (出版年(月日)2000年)
共著区分
単著
掲載種別
研究論文(学術雑誌)
査読有無
有り

Predictive study of a plasma structure and function in reactive ion etcher driven by very high frequency: Validity of an extended two-dimensional relaxation continuum model

著者名
K. Maeshige, M. Hasebe, Y. Yamaguchi and T. Makabe
掲載誌名
誌名J.Appl.Phys. 開始ページ4518-24 (出版年(月日)2000年10月)
共著区分
共著
掲載種別
研究論文(学術雑誌)
査読有無
有り

Transport coefficients and scattering cross-sections for plasma modeling in CF4-Ar mixtures: a swarm analysis

著者名
M. Kurihara, Z. Lj. Petrovic, and T. Makabe
掲載誌名
誌名J.Phys.D 開始ページ2146-53 (出版年(月日)2000年09月)
共著区分
共著
掲載種別
研究論文(学術雑誌)
査読有無
有り

Electron transport in argon in crossed electric and magnetic fields

著者名
K. Ness and T. Makabe
掲載誌名
誌名Phys. Rev. E 開始ページ4083-90 (出版年(月日)2000年09月)
共著区分
共著
掲載種別
研究論文(学術雑誌)
査読有無
有り

Functional separation of biasing and sustaining voltages in two-frequency capacitively coupled plasma

著者名
K. Kitajima, Y. Takeo, Z. Lj. Petrovic and T. Makabe
掲載誌名
誌名Appl.Phys.Let 開始ページ489-91 (出版年(月日)2000年07月)
共著区分
共著
掲載種別
研究論文(学術雑誌)
査読有無
有り

Diffusin of electronin time- dependent E(t)×B(t) fields

著者名
Z. Raspopovic, S. Sakadzic, Z. Lj. Petrovic, and T. Makabe
掲載誌名
誌名J.Phys.D 開始ページ1298-1302 (出版年(月日)2000年06月)
共著区分
共著
掲載種別
研究論文(学術雑誌)
査読有無
有り

Simulation of Magnetron Plasma

著者名
T. Makabe
掲載誌名
誌名J.Vac.Soc.Jpn. 開始ページ767-72 (出版年(月日)2000年05月)
共著区分
単著
掲載種別
研究論文(学術雑誌)
査読有無
有り

Diagnostics of an inductively coupled CF4/Ar plasm

著者名
K. Hioki, H. Hirata, S. Matsumura, Z. Lj. Petrovic and T. Makabe
掲載誌名
誌名J.Vac.Sci.Technol.A, 開始ページ864-72 (出版年(月日)2000年05月)
共著区分
共著
掲載種別
研究論文(学術雑誌)
査読有無
有り

Micro-Cell-Plasma driven by high frequency voltage source

著者名
M. Kurihara and T. Makabe
掲載誌名
誌名J.Plasma and Fusion Research 開始ページ444-8 (出版年(月日)2000年05月)
共著区分
共著
掲載種別
研究論文(学術雑誌)
査読有無
有り

Numerical study of effects of frequency in inductively coupled plasma using Particle-in-Cell/Monte Carlo simulation

著者名
J-S. Oh and T. Makabe
掲載誌名
誌名Jpn.J.Appl.Phys. 開始ページ1358-64 (出版年(月日)2000年03月)
共著区分
共著
掲載種別
研究論文(学術雑誌)
査読有無
有り