論文
真壁 利明
181~198件（全198件）
Optical emission diagnostics of etching of low-k dielectrics in a two frequency inductively coupled plasma
- 著者名
- M. Miyauchi, Y. Miyoshi, Zoran Lj. Petrovic, and T. Makabe
- 掲載誌名
- 誌名Solid-State Electonics 開始ページ1418-24 (出版年（月日）2007年09月）
- 共著区分
- 共著
- 掲載種別
- 研究論文（学術雑誌）
- 査読有無
- 有り
Plasma etching and feature evolution of organic low-k material by using VicAdress
- 著者名
- T.Makabe, T.Shimada, and T.Yagisawa
- 掲載誌名
- 誌名Computer Physics Communications 開始ページ64-7 (出版年（月日）2007年02月）
- 共著区分
- 共著
- 掲載種別
- 研究論文（学術雑誌）
- 査読有無
- 有り
Evaluation of errors in feedback control based on persistence prediction in model-vased process controller system for deep sub-100nm gate fabrication
- 著者名
- T. Goto and T. Makabe
- 掲載誌名
- 誌名Jpn.J.Appl.Phys. 開始ページ7645-54 (出版年（月日）2006年）
- 共著区分
- 共著
- 掲載種別
- 研究論文（学術雑誌）
- 査読有無
- 有り
Optical diagnostics for plasma-surface interaction in CF4/Ar radio-frequency inductively coupled plasma during Si and SiO2 etching
- 著者名
- Y. Miyoshi, M. Miyauchi, Y. Komukai, and T. Makabe
- 掲載誌名
- 誌名J.Vac.Sci.Technol.A 開始ページ1718-24 (出版年（月日）2006年）
- 共著区分
- 共著
- 掲載種別
- 研究論文（学術雑誌）
- 査読有無
- 有り
Increased O(1D) metastable density in highly Ar-diluted oxygen plasmas
- 著者名
- T. Kitajima, T. Nakano, and T. Makabe
- 掲載誌名
- 誌名Appl.Phys.Lett. 開始ページ091501(3pp) (出版年（月日）2006年）
- 共著区分
- 共著
- 掲載種別
- 研究論文（学術雑誌）
- 査読有無
- 有り
A modeling of DC magnetron plasma for sputtering: transport of sputtered copper atoms
- 著者名
- T. Yagisawa and T. Makabe
- 掲載誌名
- 誌名J.Vac,Sci.Technol.A 開始ページ908-13 (出版年（月日）2006年）
- 共著区分
- 共著
- 掲載種別
- 研究論文（学術雑誌）
- 査読有無
- 有り
Self-consistent modeling of feature profile evolution in plasma etching and deposition
- 著者名
- T. Shimada, T. Yagisawa, and T. Makabe
- 掲載誌名
- 誌名Jpn.J.Appl.Phys.(Exp.Lett) 開始ページL132-4 (出版年（月日）2006年）
- 共著区分
- 共著
- 掲載種別
- 研究論文（学術雑誌）
- 査読有無
- 有り
Prediction of organic low-k material etching in two frequency capacitively coupled plasma
- 著者名
- K. Ishihara, T. Shimada, T. Yagisawa, and T. Makabe
- 掲載誌名
- 誌名Plasma Physics and Controlled Fusion 開始ページB99-104 (出版年（月日）2006年11月）
- 共著区分
- 共著
- 掲載種別
- 研究論文（学術雑誌）
- 査読有無
- 有り
Modeling of feature profile evolution in SiO2 as functions of radial position and bias voltage under competition among charging, deposition, and etching in two-frequency capacitively coupled plasma
- 著者名
- T. Shimada, T. Yagisawa, and T. Makabe
- 掲載誌名
- 誌名Jpn.J.Appl.Phys. 開始ページ8876-82 (出版年（月日）2006年11月）
- 共著区分
- 共著
- 掲載種別
- 研究論文（学術雑誌）
- 査読有無
- 有り
Monte Carlo analysis of ionization effects on spatiotemporal electron swarm development
- 著者名
- S. Dujko, Z. M. Raspopovic, R. D. White, T. Makabe and Z. Lj. Petrovic
- 掲載誌名
- 誌名Eur. Phys. J: D 開始ページ166-(9pp) (出版年（月日）2014年）
- 共著区分
- 共著
- 掲載種別
- 研究論文（学術雑誌）
- 査読有無
- 有り
Effect of local gas heating on a plasma structure driven at radio frequency in a microcell in Ar at atmospheric pressure
- 著者名
- M. Yamasaki, T. Yagisawa, and T. Makabe
- 掲載誌名
- 誌名Jpn. J. Appl. Phys. 開始ページ036001(5pp) (出版年（月日）2014年）
- 共著区分
- 共著
- 掲載種別
- 研究論文（学術雑誌）
- 査読有無
- 有り
A set of cross sections and transport coefficients for electrons in HBr
- 著者名
- O. Sasic, S. Dujko, T. Makabe, and Z. Lj. Petrovic
- 掲載誌名
- 誌名Chem. Phys. 開始ページ154-9 (出版年（月日）2012年）
- 共著区分
- 共著
- 掲載種別
- 研究論文（学術雑誌）
- 査読有無
- 有り
Actions of low- and high-energy electrons on the phase-transition between E and H modes in an inductively coupled plasma in Ar
- 著者名
- Y. Hayashi, Y. Mitsui, T. Tatsumi, and T. Makabe
- 掲載誌名
- 誌名New J. Physics 開始ページ073025(11pp) (出版年（月日）2011年）
- 共著区分
- 共著
- 掲載種別
- 研究論文（学術雑誌）
- 査読有無
- 有り
Workshop on atomic and molecular collision data for plasma modelling: database needs for semiconductor plasma processing
- 著者名
- T. Makabe and T. Tatsumi
- 掲載誌名
- 誌名Plasma Sources Sci. Technol. 開始ページ024014(6pp) (出版年（月日）2011年04月）
- 共著区分
- 共著
- 掲載種別
- 研究論文（学術雑誌）
- 査読有無
- 有り
Spatiotemporal optical structure of plasmas in the E-to-H mode transition in an inductively coupled plasma in Ar
- 著者名
- S. Morishita, Y. Hayashi, and T. Makabe
- 掲載誌名
- 誌名Plasma Sources Sci. Technol. 開始ページ055007(4pp) (出版年（月日）2010年）
- 共著区分
- 共著
- 掲載種別
- 研究論文（学術雑誌）
- 査読有無
- 有り
Numerical Investigation of Relationship between Micro-Scale Pattern, Interfacial Plasma Structure, and Feature Profile during Deep-Si Etching in Two-Frequency Capacitively Coupled Plasma in SF6/O2
- 著者名
- F. Hamaoka, T. Yagisawa, and T. Makabe
- 掲載誌名
- 誌名J.Phys.D: Appl. Phys. 開始ページ075201(9pp) (出版年（月日）2009年）
- 共著区分
- 共著
- 掲載種別
- 研究論文（学術雑誌）
- 査読有無
- 有り
Nonequilibrium radio frequency plasma interacting with surface
- 著者名
- T. Makabe and T. Yagisawa
- 掲載誌名
- 誌名Plasma Sources, Science and Technology 開始ページ14016(9pp) (出版年（月日）2009年）
- 共著区分
- 共著
- 掲載種別
- 研究論文（学術雑誌）
- 査読有無
- 有り
Diagnostics for low-energy electrons in a two-frequency capacitively coupled plasma in Ar
- 著者名
- M. Ishimaru, T. Ohba, Y. Hayashi, T. Ohmori, K. Kitajima, and T. Makabe
- 掲載誌名
- 誌名Appl.Phys.Let. 開始ページ071501(3pp) (出版年（月日）2008年）
- 共著区分
- 共著
- 掲載種別
- 研究論文（学術雑誌）
- 査読有無
- 有り