論文

Al2O3の電子状態を第一原理バンド計算によって求め、Al2O3薄膜の厚みが薄くなったときにバンドギャップなど絶縁性がどのように変化するかを予測した。

トンネル磁気抵抗素子におけるインピーダンスの周波数特性を調べた。高周波の応答性を高く保つには素子の電気抵抗を低くする必要のあることを明らかにした。

トンネル磁気抵抗素子におけるキャパシタンスは、電気抵抗と同様、外部磁界の影響を受けて変化することを、新たに見出した。

イオンビームスパッタ法を用い、さまざまな条件でCo-CoO 薄膜を作製して、磁化特性を調べた。バルクとは異なり、薄膜ではCoO は室温でも反強磁性を示し、結果として高い保磁力が得られる場合があることが分かった。

既に記録されたトラック上に、新たな信号をオフトラック状態でオーバーライトすると、もとの記録信号がノイズとして影響を与える。これは磁気記録の記録密度向上の障害となる。許容されるオフトラック量や、オーバーライトノイズを抑えるために要求される磁気特性などについて、マイクロマグネティック・シミュレーションを用いて検討した。

パターン化記録媒体に、面内長手記録及び横手記録したときの磁化安定性をマイクロマグネティック・シミュレーションによって調べた。

薄いグラファイト結晶の電気抵抗とホール係数を測定した。

記録磁気ヘッドが発生する磁界強度の、面内記録スパッタ媒体の記録磁化に及ぼす影響を調べた。

磁性薄膜の磁区構造が外部磁界によってどのように変化するか、シミュレーションによって調べた。

高飽和磁束密度・高透磁率のFe-C/Ni-Fe材料を磁極とする単磁極型磁気ヘッドを試作し、録再分離法で記録特性と再生特性を独立に評価し、垂直磁気記録特性について検討した。

薄膜磁気ヘッドにおける磁極の飽和磁束密度と記録性能の関係について調べた。

高周波で駆動された薄膜磁極の磁区構造の挙動を調べた。

静磁エネルギーを正確に計算するプログラムを作成し、磁性薄膜にできる磁区構造の解析を行った。

高周波磁界によって駆動された磁性薄膜の磁壁運動をマイクロ・カー効果顕微鏡によって観察し、高周波磁化過程を解析した。

磁気ヘッドにおける磁極の高周波磁化状態をカー効果を利用して観察する方法（マイクロ・カー効果顕微鏡）を開発し、種々の磁気ヘッドの動作特性について検討した。

高飽和磁束密度・高透磁率の磁極材料として、FeC合金をNiFe合金薄膜を介して多層化する方法を考案した。Feとほとんど同じ高飽和磁束密度を有し実用的な透磁率を有する磁極材料を得た。