論文

非弾性トンネル分光法のスペクトルを解析し、トンネル素子を構成するAlO障壁の酸化状態を評価した。

エンジニアの転職・キャリア形成についてのインタビュー

絶縁破壊したトンネル素子をトンネル分光法によって評価したところ、鋭いピークが観察される場合のあることが分かった。このピークは絶縁破壊によって単に電極間がショートしたのではなく絶縁障壁中に何らかの生成物ができたことを示している。

アルミニウム薄膜の熱酸化過程を詳細に調べた。アルミニュウムは酸化されやすいが、金属アルミニウムが残存して、時間をかけても酸化が進行しない場合があり、残存状態に再現性がない。しかし、一般に低温ではAlOが、高温ではAl2O3が生成することが分かった。

垂直磁気記録用の媒体は、軟磁性薄膜上に垂直磁化膜を形成した2層膜が基Co /AlOx /Coトンネル素子について、時間とともに変化する電流電圧特性を測定して、障壁高さと障壁厚みを評価し、低電圧ストレス下において破壊に至る変化を調べた。障壁である酸化アルミニウムは電圧を加え続けると条件によって、酸化または還元されるが、この過程は破壊とは直接関係ない。前駆現象は観察されず、突然、大きな抵抗変化が起こって破壊する。

渦電流を考慮した動的マイクロマグネティック・シミュレーションにより、狭トラックリングヘッドの高周波磁化応答を調べた。１GHｚ程度の周波数では磁化過程に及ぼす影響は渦電流よりもジャイロ磁気共鳴効果が大きいが、より高い周波数では渦電流の影響も無視できないことが分かった。

Co薄膜にできる磁区構造を、外部磁界を変化させて評価した。トンネル素子等に用いる薄膜の領域では、複雑な磁区構造が観測され、磁化過程の障害となる可能性がある。

Co/Al-oxide/Coスピントンネル磁気抵抗素子におけるAl膜厚と磁気抵抗変化量の関係について調べた。

熱アシスト磁気記録の現状についてレビューした。

日本の科学・技術に関する教育の問題点を論じた。

スピントンネル磁気抵抗素子におけるな熱処理効果を調べた。熱処理によって磁気抵抗効果が増大するが、熱処理温度が高すぎると逆に低下する。

Co/AlOx/Coトンネル接合において、障壁界面に未酸化のAlが残っているときの影響をバンド計算によって見積もった。

トンネル障壁層は、作り方によっては膜厚方向に組成が分布しているなど、一様とみなせるとは限らない。そこで、障壁層の高さと厚みを２層に近似して電流電圧特性を表すことを試みた。実験で求めた電流電圧特性とフィットさせることによって、各障壁の高さと厚みを推定できる。これによって障壁特性の分布を考慮した解析が可能となった。

発振制御型の磁気センシングは、センシング感度に優れ、エラーは十分に小さくできる可能性があるが応答性が悪い。応答を高めるには発振周波数を高くし、磁気抵抗変化量を大きくする必要がある。