研究発表

トンネル素子に一定電圧を加えたとき、トンネル分光のスペクトルが変化することが分かった。これは絶縁層の酸化・還元と関係していると考えられる。

高速フーリエ変換を取り入れた3次元動的 マイクロマグネティクス・シミュレーションにより、磁気ヘッド全体にわたって高周波磁化過程を計算した。渦電流の効果は磁極先端部では小さく、後部コアで大きいこと、そのため発生磁界は記録電流に対して遅れることが明らかになった。

渦電流を考慮した3次元マイクロマグネティクスのシミュレーションは莫大な計算パワーを使う。渦電流計算に高速フーリエ変換のアルゴリズムを導入し計算時間の短縮を図った。

絶縁破壊したトンネル素子をトンネル分光法によって評価したところ、鋭いピークが観察される場合のあることが分かった。このピークは絶縁破壊によって単に電極間がショートしたのではなく絶縁障壁中に何らかの生成物ができたことを示している。

垂直磁気記録用の媒体は、軟磁性薄膜上に垂直磁化膜を形成した2層膜が基本構造となっている。高周波記録では軟磁性薄膜に大きな渦電流損失が流れ、これが記録を阻害する恐れがある。そこで、動的なマイクロマグネティック・シミュレーションにより、渦電流の効果を調べた。その結果、通常の記録再生状態では渦電流損失はほとんど磁化過程に影響を与えないことが分かった。