論文
伊藤 公平
241~260件（全344件）
Coherence Time of Decoupled Nuclear Spins in Silicon
- 著者名
- T. D. Ladd, D. Maryenko, Y. Yamamoto, E. Abe, and K. M. Itoh
- 掲載誌名
- 誌名Phys. Rev. B 開始ページ014401 (出版年（月日）2005年01月）
- 共著区分
- 共著
- 掲載種別
- 研究論文（学術雑誌）
- 査読有無
- 有り
28Sin/30Sin同位体超格子の成長と評価
- 著者名
- 伊藤 公平
- 掲載誌名
- 誌名日本結晶成長学会誌 巻31(号1) 開始ページ38-42 (出版年（月日）2004年）
- 共著区分
- 単著
- 掲載種別
- 研究論文（学術雑誌）
- 査読有無
- 無し
量子演算につながるコヒーレンス
- 著者名
- 伊藤 公平
- 掲載誌名
- 誌名応用物理 巻73(号6) 開始ページ782-786 (出版年（月日）2004年）
- 共著区分
- 単著
- 掲載種別
- 研究論文（学術雑誌）
静磁場を利用した73Ge融液の自己拡散係数の測定
- 著者名
- 稲富裕光, 大西史倫, 田中朋弘, 篠崎直人, 渡辺匡人, 藤本明良, 伊藤 公平
- 掲載誌名
- 誌名Thermophys Prop 開始ページ189-191 (出版年（月日）2004年12月）
- 共著区分
- 共著
- 掲載種別
- 研究論文（学術雑誌）
Simulation of Correlated Diffusion of Si and B in Thermally Grown SiO2
- 著者名
- M. Uematsu, H. Kageshima, Y. Takahashi, S. Fukatsu, K. M. Itoh, and K. Shiraishi
- 掲載誌名
- 誌名J. Appl. Phys. 巻96(号10) 開始ページ5513-5519 (出版年（月日）2004年11月）
- 共著区分
- 共著
- 掲載種別
- 研究論文（学術雑誌）
- 査読有無
- 有り
The Effect of the Si/SiO2 Interface on Silicon and Boron Diffusion in Thermally Grown SiO2
- 著者名
- S. Fukatsu, K. M. Itoh, M. Uematsu, H. Kageshima, Y. Takahashi, and K. Shiraishi
- 掲載誌名
- 誌名Jpn. J. Appl. Phys. 巻43(号11B) 開始ページ7837-7842 (出版年（月日）2004年11月）
- 共著区分
- 共著
- 掲載種別
- 研究論文（学術雑誌）
- 査読有無
- 有り
Photoluminescence studies of implantation damage centers in 30Si
- 著者名
- S. Hayama, G. Davies, and K. M. Itoh
- 掲載誌名
- 誌名J. Appl. Phys 巻96(号3) 開始ページ1754 (出版年（月日）2004年08月）
- 共著区分
- 共著
- 掲載種別
- 研究論文（学術雑誌）
- 査読有無
- 有り
Site Selective Growth of Ge Quantum Dots on AFM Patterned Si Substrates
- 著者名
- A. Hirai, and K. M. Itoh
- 掲載誌名
- 誌名Physica E 開始ページ248 (出版年（月日）2004年07月）
- 共著区分
- 共著
- 掲載種別
- 研究論文（学術雑誌）
- 査読有無
- 有り
Electron-spin phase relaxation of phosphorus donors in nuclear-spin-enriched silicon
- 著者名
- E. Abe, K. M. Itoh, J. Isoya, and S. Yamasak
- 掲載誌名
- 誌名Phys. Rev. B 開始ページ033204 (出版年（月日）2004年07月）
- 共著区分
- 共著
- 掲載種別
- 研究論文（学術雑誌）
- 査読有無
- 有り
Lattice Isotope Effects on Optical Transitions in Silicon
- 著者名
- S. Hayama, G. Davies, J. Tan, J. Coutinho, R. Jones, and K. M. Itoh
- 掲載誌名
- 誌名Phys. Rev. B 開始ページ035202 (出版年（月日）2004年07月）
- 共著区分
- 共著
- 掲載種別
- 研究論文（学術雑誌）
- 査読有無
- 有り
Correlated Diffusion of Silicon and Boron in Thermally Grown SiO2
- 著者名
- M. Uematsu, H. Kageshima, Y. Takahashi, S. Fukatsu, #HK. M. Itoh#H, and K. Shiraishi
- 掲載誌名
- 誌名Appl. Phys. Lett. 巻85(号2) 開始ページ221-223 (出版年（月日）2004年07月）
- 共著区分
- 共著
- 掲載種別
- 研究論文（学術雑誌）
- 査読有無
- 有り
Modeling of Si self-diffusion in SiO2 :Effect of the Si/SiO2 interface including time-dependent diffusivity
- 著者名
- M. Uematsu, A. Fujiwara, H. Kageshima, Y. Takahashi, S. Fukatsu, K. M. Itoh, K. Shiraishi, and U. Gosele
- 掲載誌名
- 誌名Appl. Phys. Lett. 巻84(号6) 開始ページ876-878 (出版年（月日）2004年02月）
- 共著区分
- 共著
- 掲載種別
- 研究論文（学術雑誌）
- 査読有無
- 有り
Complete Scaling Analysis of the Metal-Insulator Transition in Ge:Ga: Effects of Doping-Compensation and Magnetic Field
- 著者名
- K. M. Itoh, M. Watanabe, Y. Ootuka, E. E. Haller, and T. Ohtsuki
- 掲載誌名
- 誌名J. Phys. Soc. Jpn. 巻73(号1) 開始ページ173-183 (出版年（月日）2004年01月）
- 共著区分
- 共著
- 掲載種別
- 研究論文（学術雑誌）
- 査読有無
- 有り
未来の高速計算機、量子コンピューターをシリコンで実現へ
- 著者名
- 伊藤 公平
- 掲載誌名
- 誌名日経先端技術 開始ページ18-21 (出版年（月日）2003年）
- 共著区分
- 単著
- 掲載種別
- 研究論文（学術雑誌）
- 査読有無
- 無し
シリコン結晶中の核スピン量子コヒーレンス
- 著者名
- 佐々木 進，伊藤公平
- 掲載誌名
- 誌名固体物理 巻38(号11) 開始ページ801-815 (出版年（月日）2003年）
- 共著区分
- 共著
- 掲載種別
- 研究論文（学術雑誌）
- 査読有無
- 無し
シリコン量子コンピュータ
- 著者名
- 伊藤 公平
- 掲載誌名
- 誌名固体物理 巻38(号4) 開始ページ269-278 (出版年（月日）2003年）
- 共著区分
- 単著
- 掲載種別
- 研究論文（学術雑誌）
- 査読有無
- 無し
Local Vibrational Modes of Bond-centerd H in 28Si, 29Si, and 30Si crystals
- 著者名
- R. N. Pereira, T. Ohya, #HK. M. Itoh#H, and B. Bech Nielsen
- 掲載誌名
- 誌名Physica B 開始ページ697-700 (出版年（月日）2003年12月）
- 共著区分
- 共著
- 掲載種別
- 研究論文（学術雑誌）
- 査読有無
- 有り
The Effect of Partial Pressure of Oxygen on Self-Diffusion on Si in SiO2
- 著者名
- S. Fukatsu, T. Takahashi, K. M. Itoh, M. Uematsu, A. Fujiwara, H. Kageshima, Y. Takahashi, and K. Shiraishi
- 掲載誌名
- 誌名Jpn. J. Appl. Phy. 開始ページ1492-1494 (出版年（月日）2003年12月）
- 共著区分
- 共著
- 掲載種別
- 研究論文（学術雑誌）
- 査読有無
- 有り
Hyperfine Interactions at Dangling Bonds in Amorphous Germanium
- 著者名
- T. Graf, T. Ishikawa, K. M. Itoh, E. E. Haller, M. Stutzmann, and M. S. Brandt
- 掲載誌名
- 誌名Phys. Rev. B 開始ページ205208 (出版年（月日）2003年11月）
- 共著区分
- 共著
- 掲載種別
- 研究論文（学術雑誌）
- 査読有無
- 有り
Effect of the Si/SiO2 Interface on Self-diffusion of Si in Semiconductor-grade SiO2
- 著者名
- S. Fukatsu, T. Takahashi, K. M. Itoh, M. Uematsu, A. Fujiwara, H. Kageshima, Y. Takahashi, and K. Shiraishi
- 掲載誌名
- 誌名Appl. Phy. Lett. 巻83(号19) 開始ページ3897-3899 (出版年（月日）2003年11月）
- 共著区分
- 共著
- 掲載種別
- 研究論文（学術雑誌）
- 査読有無
- 有り